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光纖耦合微透鏡線陣列（色散勻化片） 使用 PowerPhotonic 光纖微透鏡陣列可簡(jiǎn)化光纖的準(zhǔn)直和耦合。PowerPhotonic 標(biāo)準(zhǔn)微透鏡陣列專為 SMF-28 單模光纖的耦合或準(zhǔn)直而設(shè)計(jì)。多通道光通信系統(tǒng)需要微透鏡陣列來(lái)耦合激光源、光纖和波導(dǎo)陣列、光復(fù)用和光交換。這些微透鏡陣列由熔融石英制成，由于散射極低，可Max. 限度地減少通道串?dāng)_，并且由于表面精度，可Max. 限度地減少插入損耗。

透射衍射光柵（ 光柵微透鏡陣列） PGL的光柵曝光和蝕刻工藝產(chǎn)生十分光滑、均勻和深的光柵槽，可忽略衍射波前畸變，具有高均勻性和衍射效率。

多層介質(zhì)（MLD）衍射光柵（光柵微透鏡陣列） 十多年來(lái)，PGL一直為shi界上許多Max. 的超高強(qiáng)度激光裝置提供MLD光柵。薄膜涂層與光柵設(shè)計(jì)和制造的結(jié)合可以大大提高衍射效率、激光損傷閾值和壓縮短脈沖的波前。 脈沖壓縮光柵有非?？量痰囊蟆藝?yán)格的平坦度和損傷閾值要求外，它們還必須在高真空下運(yùn)行。在這些條件下，涂層厚度可達(dá)40層，必須仔細(xì)控制涂層應(yīng)力，因?yàn)檫^(guò)大的壓縮應(yīng)力會(huì)使基材變形，而過(guò)大

鍍金衍射光柵（ 光柵微透鏡陣列） PGL為金涂層開發(fā)的工藝在精確特征上提供了保形層狀涂層。與光刻膠光柵上的金相比，蝕刻熔融石英上的金提供了更好的性能特征和均勻性。金在玻璃光柵上的散射較低，并且已被證明在脈沖展寬器中比基于抗蝕劑的光柵表現(xiàn)出更好的時(shí)間對(duì)比度。

混合金屬-電介質(zhì)衍射光柵（光柵微透鏡陣列）混合光柵是多層電介質(zhì)（MLD）和金光柵之間的交叉。與MLD光柵一樣，它們由高反射鏡上的全電介質(zhì)部分透射光柵組成；然而，混合光柵利用金屬鏡而不是電介質(zhì)鏡。因此，這種類型的光柵原則上可以實(shí)現(xiàn)MLD和金光柵的z佳性能特性。金屬鏡的寬頻帶和相位特性使混合光柵能夠?qū)崿F(xiàn)非常寬的光譜寬度，相當(dāng)于甚至比金光柵更寬，具有更高的衍射效率。在全介質(zhì)光柵區(qū)域，混合光柵的激光誘導(dǎo)損